Rekordauftragseingang

ASML weiter auf Wachstumskurs

19. Oktober 2022, 7:55 Uhr | Heinz Arnold

Blick in ein EUV-System von ASML.

Für 2022 erwartet ASML einen Umsatz von 21,1 Mrd. Dollar, die Nachfrage bliebe laut CEO Peter Wennink weiterhin stark.

Damit wächst ASML weiter: Im vergangenen Jahr hat der Umsatz 18,6 Mrd. Dollar erreicht, 2020 hatte er noch bei 14 Mrd. Dollar gelegen.

Im dritten Quartal hat ASML einen Umsatz von 5,8 Mrd. Dollar (Vorquartal: 5,4 Mrd. Dollar) und einen Gewinn von 1,7 Mrd. Dollar erzielt. Der Auftragseingang erreichte im dritten Quartal den Rekordwert von 8,9 Mrd. Dollar.

Im vierten Quartal erwartet ASML einen Umsatz zwischen 6,1 und 6,6 Mrd. Dollar bei einer Bruttomarge von 49 Prozent und einen Umsatz im Gesamtjahr von 21,1 Mrd. Dollar bei einer Bruttomarge von rund 50 Prozent. Im vierten Quartal 2021 hatte der Umsatz bei 5 Mrd. Dollar gelegen. Für R&D will ASML im vierten Quartal rund 880 Mio. Dollar ausgeben.

»Derzeit herrscht Unsicherheit im Markt, vor allem wegen makroökonomischer Einflüsse wie Inflation, mangelnder Nachfrage aus dem Consumer-Sektor und der Furcht vor einer Rezession. Allerdings bleibt der Bedarf für unsere Systeme stark, wie die Rekordauftragseingang im dritten Quartal zeigt«, sagt Peter Wennink. »Allein 3,8 Mrd. Dollar des Auftragseingangs in Höhe von 8,9 Mrd. Dollar entfallen auf EUV-Systeme, einschließlich der High-NA-Typen.«

Was die Exportbeschränkungen der USA gegenüber China angeht, so schätzt Wennink, dass die kürzlichen Verschärfungen auf das Geschäft von ASML im kommenden Jahr kaum Einfluss nehme. Die Zulieferteile, die ASML aus den USA bezieht, liegen bei unter 25 Prozent pro System.

Im dritten Quartal hat ASML das erste neue DUV-Immersion-System vom Typ »TWINSCAN NXT:2100i« an einen Kunden ausgeliefert, das den Overlay gegenüber dem Vorgänger um 20 Prozent verbessert. Mehrere Kunden setzen jetzt »Alignment Optimization 12 Color« in ihren kritischen Prozessknoten ein, der bei 12 verschiedenen Wellenlänge des Lichts misst, anstatt bei vier. Das reduziert die Overlay-Variation von Wafer zu Wafer um über 20 Prozent. Außerdem gingen neue Aufträge für die High-NA-EUV-Systeme vom Typ »TWINSCAN EXE:5200« ein. »All unsere Kunde, die EUV-Systeme einsetzen, haben jetzt auch die High-NA-Typen bestellt«, so Peter Wennink.