Das imec und Mitsui Chemicals, ein japanisches Chemieunternehmen und Anbieter von EUV-Pellikeln, arbeiten zusammen, um die Kommerzialisierung von CNT-basierenden Pellikeln (CNT: Carbon Nanotubes) für die EUV-Lithographie zu ermöglichen.
Im Rahmen dieser Partnerschaft wird Mitsui Chemicals die CNT-basierte Pellicle-Innovation vom imec in seine eigene Pellicle-Technologie integrieren, um die vollen Produktions-Spezifikationen zu erreichen. Mitsui Chemicals verfolgt damit das Ziel, seine Pellicle-Technologie in EUV-Systeme 2025 und 2026 einzuführen. Die Unterzeichnung der strategischen Partnerschaft fand in Tokio während der Semicon Japan 2023 statt. Die strategische Partnerschaft sieht vor, die Membran und das EUV-Pellikel gemeinsam zu entwickeln und auf den EUV-Scannern beim imec zu validieren, um so eine Kommerzialisierung für Mitsui Chemicals zu erreichen.
»2015 haben wir mit Partnern aus der gesamten Lieferkette zusammengearbeitet, um ein innovatives CNT-basiertes Pellicle-Design für die fortschrittliche EUV-Lithographie zu entwickeln«, sagt Steven Scheer, Senior Vice President Advanced Patterning, Process and Materials bei imec. »Wir sind zuversichtlich, dass unser fundiertes Wissen über die Messtechnik, Charakterisierung, Eigenschaften und Leistung von CNT-Membranen die Produktentwicklung von Mitsui Chemicals beschleunigen wird. Gemeinsam hoffen wir, CNT-Pellikel für zukünftige Generationen der EUV-Lithographie in die Produktion zu bringen.«
Die Lithografie-Roadmap sieht die Einführung neuer Pellikel im Zeitrahmen zwischen 2025 und 2026 vor, d.h. wenn die nächste Generation der ASML 0,33NA EUV-Lithografiesysteme Lichtquellen mit einer Leistung von 600 W und mehr unterstützen wird. Dieser Zeitrahmen steht im Zusammenhang mit der Einführung von Logik-Technologieknoten unterhalb von 2nm.