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Umweltfreundliche Lösungsmittel für die Chip-Herstellung

26. Juli 2021, 08:04 Uhr   |  Iris Stroh

Umweltfreundliche Lösungsmittel für die Chip-Herstellung
© Merck

Neu eingeführtes Produktportfolio ermöglicht hocheffiziente, umweltfreundliche Reinigungsprozesse

Merck hat eine neue Produktlinie an komplementären »grünen« Lösungsmitteln für den Einsatz in fotolithografischen Prozessen bei der Herstellung von Halbleitern vorgestellt.

Merck führt mit AZ 910 Remover eine neue Produktlinie am Markt ein, die formulierte, NMP-freie (N-Methyl-2-pyrrolidon) chemische Produkte umfasst und die auf eine schnellere und kosteneffektive Entfernung von Fotolackstrukturen ausgelegt sind. Der Vorteil des neuen Portfolios: die Lösungen weisen einen guten ökologischen Fußabdruck auf, sind einfach zu handhaben und mit einer großen Bandbreite an Werkzeugen einsetzbar, sowie sehr effektiv den Lösungswiderstand überwinden.

Bei der Produktion von Halbleitern werden für gewöhnlich Negativ-Fotolacke eingesetzt, die zur Optimierung für fotolithografische Prozesse chemischen Reaktionen (Vernetzungen) unterzogen werden. Diese Vernetzungsreaktionen erschweren allerdings das Lösen und Entfernen der Lacke, was sich sowohl nachteilig auf das Geschäft als auch die Umwelt auswirkt. Die bereits seit Längerem auf dem Markt vorhandenen formulierten Reinigungsprodukte werden den steigenden Branchenanforderungen an leistungsstarke, nachhaltige chemische Lösungen, die geringere Mengen an Lösungsmittel beinhalten, nicht gerecht.

Mit dem AZ 910 Remover-Portfolio, das auf die Märkte für mikroelektromechanische Systeme (MEMS), Power-Management-ICs (integrierte Schaltkreise) und das Wafer-Level-Packaging sowie auf den Automobilmarkt abzielt, gibt es nun eine Alternative zu komplexen und teuren NMP-basierten chemischen Produkten. Mit den Produkten des Portfolios können sowohl Negativ- als auch Positivlacke entfernt werden, während die marktüblichen NMP-basierten Lösungen lediglich die Haftung an der Wafer-Oberfläche lösen. Dieser neuartige Ansatz hat mehrere Vorteile: Der mit dem Entfernungsprozess verbundene Zeitaufwand wird halbiert, die Lebensdauer chemischer Lösungen und Filter wird verlängert und die Hersteller können ihre Gesamtbetriebskosten erheblich senken und müssen nicht in Highend-Entferner für moderne Prozessoren investieren.

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