EMLC 2016
Maskenherstellung heute und in Zukunft
Fortsetzung des Artikels von Teil 1
Nano-Imprint-Lithografie
Auch die jüngsten Entwicklungen auf dem Gebiet der Nano-Imprint-Lithografie (NIL) waren ein Thema. Das Nano-Imprint-Verfahren ist eine Prägetechnik, bei der strukturierte Quarzplatten wie Stempel verwendet und in den Fotolack (Resist) gedrückt werden, während in einem anschließenden Ätzprozess der Quarz strukturiert wird. Die Technik hat für die Maskenhersteller einen gewissen Charme, weil im Falle des breiten Einsatzes der Technik große Umsätze erwartet werden. Denn bei der NIL werden sehr viele Masken benötigt, weil sich diese durch den Kontakt bei der Prägung rasch abnutzen. Allerdings ist das Verfahren nicht uneingeschränkt einsetzbar. Bei Imprint-Verfahren, bei denen mehrere Schichten übereinander belichtet werden müssen, liegt eine erhebliche Herausforderung im Sicherstellen der Platzierung.
In einer weiteren Keynote verwies You Cao von ASML Brion, USA, auf die Notwendigkeit der optischen Nahbereichskorrektur (Optical Proximity Correction, OPC), um eine gute Strukturübertragung der Masken zu gewährleisten. Dabei handelt es sich um ein Verfahren zur Verringerung von Abbildungsfehlern von Strukturen bei fotolithografischen Prozessen.
Auch für das nächste Jahr ist wieder eine Konferenz auf gleichbleibend hohem Niveau geplant. So darf man auf die Entwicklungen gespannt sein, die sich bis zur EMLC 2017, die im kommenden Juni erneut in Dresden stattfinden wird, abzeichnen werden
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