Nanoimprint und heterogene Integration

EVG verdoppelt Reinraumfläche

21. Juli 2020, 7:19 Uhr | Heinz Arnold

Das neue Reinraumgebäude von EVG am Firmenhauptsitz in St. Florian/Österreich.

Im erweiterten Reinraum können die Anwender neue Produkte und Prozesse rund um die Nanoimprint-Lithographie und die heterogene Integration entwickeln.

Die EV Group (EVG) hat ihr neues Reinraumgebäude am Firmenhauptsitz in Österreich eröffnet und damit die Kapazität verdoppelt. Im »Cleanroom V« entwickelt EVG neue Produkte, Prozesse und Muster für Pilotserien-Produktionsservices. Auch Anlagendemonstrationen werden hier durchgeführt. Als Teil eines im letzten Jahr angekündigten 30-Millionen-Euro-Investments wird das »Cleanroom V«-Gebäude offiziell im August eröffnet.

Es ist direkt mit den bestehenden Reinraum- und Anwendungslabors von EVG verbunden und bietet rund 620 Quadratmeter zusätzliche Reinraumfläche der Reinheitsklasse 10. Das neue Gebäude beherbergt darüber hinaus auch ein modernes Schulungs- und Trainingszentrum mit mehreren speziell ausgestatteten Bereichen für die Schulung von Kunden und Service-Ingenieuren auf den Equipment-Plattformen von EVG. Im Rahmen der Investition in die Erweiterung wurde auch die bestehende Infrastruktur der Reinräume und Anwendungslabors aufgerüstet. Dazu gehören redundante Systeme, die für hohe Sicherheit und hohe Verfügbarkeit sorgen.

Beschleunigte Entwicklung und Risikominimierung

Die zusätzlichen Kapazitäten, die durch das neue Reinraum-V-Gebäude entstehen, erweitern die Möglichkeiten der beiden Kompetenzzentren »NILPhotonics« (NIL steht für Nanoimprint) und »Heterogeneous Integration Competence Center«. Sie stellen Dienstleistungen zur Prozessentwicklung bereit und dienen als Open-Access-Innovationsinkubatoren für die Kunden und Partner in der gesamten Mikroelektronik-Lieferkette.

Mit diesen Technologie-Kompetenzzentren unterstützt EVG seine Kunden bei der Beschleunigung der Technologieentwicklung, der Risikominimierung und der Entwicklung neuer Technologien und Produkten durch den Einsatz von Nanoimprint-Lithographieverfahren bzw. der heterogenen Integration, während gleichzeitig hohe IP-Schutzstandards für die Arbeit an Prototypen und Vorserienprodukten garantiert werden.

EVG präsentiert die vollständige Produktpalette an Waferbondern, Lithographie- und Photoresist-Verarbeitungslösungen auf der Messe SEMICON West, die dieses Jahr virtuell vom 20. bis 23. Juli stattfindet.

»Die Einrichtung des Reinraums entspricht bis ins kleinste Detail dem neuesten Stand der Technik und befindet sich zweifellos auf Augenhöhe mit den technisch fortschrittlichsten Reinräumen in Europa«, erklärte Markus Wimplinger, Corporate Technology Development & IP Director von EV Group. »Für EVG wird dieses neue Gebäude unsere Fähigkeiten, gemeinsam mit unseren Kunden künftige Anwendungen und Technologien zu entwickeln, weiter verbessern. Über die Dienstleistungen, die wir in unseren Kompetenzzentren für NILPhotonics und heterogene Integration anbieten, können unsere Kunden und Partner, die Entwicklungszyklen zu verkürzen und neuartige Produkte entwickeln.«