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EUV Lithographie

ASML investiert in Partner Zeiss 1 Mrd. Euro

03. November 2016, 14:09 Uhr   |  Gerhard Stelzer

ASML investiert in Partner Zeiss 1 Mrd. Euro
© ASML

ASML und Zeiss arbeiten bei Halbleiterlithographiesystemen bereits seit drei Jahrzehnten zusammen, wobei typischer weise die Linsensysteme für die Lichtbündelung und Fokussierung bei der Belichtung feinster Strukturen auf den Halbleiterchips von Zeiss entwickelt wurden.

Die Entwicklung der extremen UV-Lithographie für die Herstellung modernster Chips verschlingt viel Geld. ASML will die Partnerschaft mit Zeiss stärken und kauft sich dort für 1 Mrd. Euro ein. Was steckt dahinter?

Der niederländische Spezialist für Lithographie-Systeme für die Halbleiterfertigung ASML vertieft seine enge Partnerschaft zum Optik-Spezialisten Carl Zeiss SMT (Semiconductor Manufacturing Technology), einer Tochter der Carl Zeiss AG und lässt sich das 1 Mrd. Euro kosten. Das Ziel ist die gemeinsame Entwicklung von EUV-Lithographie-Systemen durch ASML, die auf Linsensystemen von Zeiss basieren. ASML und Zeiss arbeiten bei Halbleiterlithographiesystemen bereits seit drei Jahrzehnten zusammen, wobei typischer weise die Linsensysteme für die Lichtbündelung und Fokussierung bei der Belichtung feinster Strukturen auf den Halbleiterchips von Zeiss entwickelt wurden.

Offenbar scheinen die enormen Entwicklungskosten für extremes ultraviolettes Licht in der Lithographie das erträgliche Maß für Zeiss zu übersteigen. Deshalb haben beide Unternehmen nun vereinbart, dass ASML für eine Mrd. Euro eine Minderheitenbeteiligung von 24,9 % an der Carl Zeiss SMT erwirbt. Gleichzeitig betonen beide Partner, dass darüber hinaus kein weiterer Erwerb von Aktien geplant ist.

Für die EUV-Lithographie muss ein vollständig neues Optiksystem entwickelt werden, so dass ab Anfang der nächsten Dekade führende Halbleiterhersteller mit diesen Belichtungssystemen arbeiten können.

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1. ASML investiert in Partner Zeiss 1 Mrd. Euro
2. Strukturgrößen bis zu 3 nm mit NA von größer 0,5

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