nächste Generation von EUVL-Scannern
IMEC: EUV auf dem Weg zur Produktionsreife
Das belgische Forschungszenrum IMEC hat begonnen die nächste Generation von EUVL-Scannern (Extreme Ultra Violet Lithography) aus dem Hause ASML zu installieren. Das NXE:3100-System ist im Vergleich zu dem bereits installierten Alpha-Tool ein so genanntes Pre-Production-System, mit dem jetzt auch eine Studie über die Fertigung mit EUV anläuft.
Das NXE:3100 ist mit einer neuen und viel leistungsstärkeren Lichtquelle von Extreme Technologies (Ushio) ausgestattet. Für das Alpha-Tool hatte noch Carl Zeiss SMT das optische System geliefert. Nachdem es jetzt aber vorwiegend um Untersuchungen bezüglich der Herstellbarkeit von Chips mit EUV geht, ist natürlich auch der Durchsatz einer solchen Anlage von Bedeutung und die liegt beim NXE:3100 laut IMEC-Angaben um den Faktor 20 höher als beim Alpha-Tool.
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