Universität Pisa / Picosun
1 µF/mm² bei in Silizium integrierte Mikrokondensatoren
Wie Forscher der Universität Pisa berichten, haben sie mithilfe der weitverbreiteten ALD-Technik (Atomic Layer Deposition) von Picosun in Siliziumwafer Deep-Trench-Mikrokondensatoren integriert. Diese erreichen eine flächenbezogene Kapazität von 1…