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SÜSS und micro resist technology

Joint Venture für die Nanoimprint-Lithografie

10. Juni 2020, 09:27 Uhr   |  Heinz Arnold

Joint Venture für die Nanoimprint-Lithografie
© SÜSS MicroTec

Blick in das SUSS Imprint Excellence Center.

SÜSS MicroTec und micro resist technology kooperieren bei der Weiterentwicklung der Nanoimprint-Lithografie.

Die Nanoimprint-Lithografie (NIL) ist ein UV-Härtungs-Prägeverfahren und wird beispielsweise eingesetzt, um diffraktive optische Elemente in Augmented-Reality-Brillen herzustellen. Über die Nanoimprint-Lithografie lassen sich Mikro- und Nano-Strukturen transferieren, um optischen Sensoren und Laser-Nano-PSS (Patterned Sapphire Substrates) herzustellen. Auch um vor Fälschungen zu schützen, wird NIL eingesetzt.

Das grundlegende Ziel der Zusammenarbeit zwischen SÜSS MicroTec und micro resist technology besteht darin, neu entstehende Anforderungen zu verstehen und die erforderlichen Prozesse und Materialien zu entwickeln.

Um qualitativ hochwertige Nanoimprint-Lithografie-Prozesse anbieten zu können, müssen Equipment, Verfahren und Materialien kombiniert werden. Das SUSS Imprint Excellence Center, eine gemeinsame Unternehmung der SUSS MicroTec Lithography und SÜSS MicroOptics, stellt die Maschinen und die Erfahrung in der Großserienfertigung zur Verfügung. Die micro resist technology bringt mit ihrer chemischen Expertise die Materialien ein. Die beteiligten Unternehmen wollen die Nanoimprint-Lithografie sowohl in Richtung Hochleistungs- als auch der Großserienproduktion weiter entwickeln. Die Kooperation ist unter dem Dach des SUSS Imprint Excellence Center angesiedelt.

»Das SUSS Imprint Excellence Center stützt sich auf jahrzehntelange Erfahrung im Bereich Imprint-Equipment und industrieller Prozessentwicklung für die Hochvolumenproduktion«, sagt Franz Richter, CEO von SÜSS MicroTec. »Eine weitere Stärkung dieses Clusters durch eine starke Partnerschaft mit einem führenden Resist-Lieferanten und erfahrenen Materialhersteller ist unabdingbar, um perfekte Imprint-Lösungen zu ermöglichen.«

»Seit mehr als zwei Jahrzehnten liefert die micro resist technology (MRT) maßgeschneiderte Resist-Rezepturen für NIL rund um den Globus«, sagt Gabi Grützner, CEO und Gründerin von MRT. »Durch unser Know-how auf dem Gebiet der Polymerchemie und der Replikationsverfahren ist es uns möglich, hochmoderne Materiallösungen anzubieten, die eine steigende Anzahl von industriellen Anwendungsbereichen abdecken, etwa für die Komponentenherstellung in der Unterhaltungselektronik. Jetzt können wir innerhalb der Allianz Materialien und Ausrüstung aufeinander abstimmen, um NIL für noch mehr industrielle Anwender verfügbar zu machen.«

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