Firma

Für 2-nm-ICs

ZEISS baut das Herzstück für die IC-Fertigung

ASML hat vor kurzem sein erstes High-NA-EUV-Lithografie-System ausgeliefert. Das Herzstück dieser weltweit einzigartigen Maschine, das optische System, hat ZEISS entwickelt und hergestellt.

US-Lithografie-Embargo

Chinesischer Handelsminister besorgt

Chinas Handelsminister Wang Wentao hat sich im Gespräch mit US-Handelsministerin Gina…

Nachfolge geregelt

Christophe Fouquet wird CEO von ASML

Peter Wennink und Martin van den Brink treten am 24. April 2024 in den Ruhestand. Deshalb…

US-Restriktionen gegen China

»China kann dennoch 5-nm-ICs fertigen!«

Der Lithografieexperte und ehemalige Vice President von TSMC, Lin Burn-jeng, hält die…

Canon prescht vor

Billige Alternative für die EUV-Lithografie

Canon setzt auf die Nanoimprint-Litografie (NIL) für die Fertigung von ICs. Diese Technik…

ASML

2024 wird »Übergangsjahr«

Der Umsatz von ASML ist im dritten Quartal 2023 gegenüber dem zweiten von 6,9 auf 6,6 Mrd.…

Kommentar

Viele neue Fabs – wenig Ingenieure

Neue Fabs können nicht so schnell gebaut werden wie geplant, weil Fachkräfte fehlen,…

Trotz Konjunktur und Geopolitik

ASML steigert Umsatz kräftig

Im zweiten Quartal 2023 hat ASML 6,9 Mrd. Euro Umsatz erzielt und erwartet für das…

Imec/ASML: Support for Europe

MoU for Semiconductor Research and Sustainable Innovation

Imec and ASML Holding announce that they intend to intensify their collaboration in the…

Nachhaltigkeit

Das SSTS-Programm des Imec

2021 hat das belgische Forschungsinstitut Imec sein Programm »Sustainable Semiconductor…