Beschichten
Fotoresist für hohen Durchsatz und höchste Auflösung
Der fotostrukturierbare, wässrig-alkalisch entwickelbare 1-Komponenten-Ätzresist Elpemer RC 2054 HR von Lackwerke Peters bietet ein sehr gutes Auflösungsvermögen bis 25 µm, trocknet schnell und benötigt nur sehr geringe Belichtungsenergie und kurze Strippzeiten.
Er stellt eine kostengünstige Alternative zu Trockenresists dar und ermöglicht einen im Vergleich zu marktgängigen Flüssigresists sehr hohen »First Pass Yield«. Der Fotoresist kann im Roller Coating-Verfahren (Index RC), Vorhanggieß- oder Tauchverfahren appliziert werden. Er ist frei von Füllstoffen und Pigmenten und daher sehr ergiebig. Zudem tritt kein störender Bodensatz im Entwickler auf, so dass der Reinigungsaufwand verringert wird. Auch bei geringen Schichtdicken erzeugt Elpemer gleichmäßige Lackschicht aufgrund sehr guter Benetzungs- und Fließeigenschaften.
Die getrocknete Oberfläche ist klebfrei und daher problemlos stapelbar sowie unempfindlich gegen Kratzer und Abriebe. Beim Belichten bewirkt der Farbindikator des Fotoresists einen eindeutigen, sehr intensiven Farbumschlag der belichteten Flächen von farblos-transparent nach blau-violett-transparent, so dass schon vor dem Entwickeln eine gute visuelle Kontrolle des Layouts auf Vollständigkeit und Auflösung möglich ist.
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