Produkt

Endlich der Durchbruch?

EUV belichtet 150 Wafer pro Stunde

ASML ist überzeugt: Der Durchbruch für den Einsatz der EUV-Lithografie sei endlich geschafft. Trumpf und Zeiss spielten dabei eine wesentliche Rolle.

Zeiss SMT

Aufbruch in den Markt für Chip-Prozesskontrolle

Zeiss steigt in den Marktsektor Prozesskontrolle für die Fertigung der neusten…

Forschungserfolg am KIT

Mit Porphyrin Li-Ion-Akkus in einer Minute laden

Was haben Chlorophyll, Hämoglobin und Vitamin B12 gemeinsam? Alle bauen auf dem Molekül…

»Bismuten« bringt den Durchbruch

Spintronics bei Raumtemperatur

Ultradünn, am Rand elektrisch leitend und im Inneren hochgradig isolierend: Dieses neue…

Interview mit An Steegen vom Imec

Wann ist Schluss mit Moore's Law?

Schon seit Jahren wird über das Ende von Moores Gesetz orakelt. Die Elektronik wollte von…

ITF 2017

Imec-iminds -Kombination trägt erste Früchte

Im Februar 2016 wurde die Entscheidung getroffen, im September war der Deal abgeschlossen:…

Energy Harvesting

Handy ohne Akku und Ladegerät

Keine Ladegeräte, Ladekabel oder sterbende Akkus mehr. Forscher der University of…

Leti/Fraunhofer

Deutschland und Frankreich arbeiten zusammen

Das französische Forschungsinstitut Leti und der Fraunhofer Verbund für Mikroelektronik…

Nobelpreisträgertagung in Lindau

Junge trifft alte Intelligenz

Rund 420 Nachwuchsforscher und knapp 30 Nobelpreisträger sind am Sonntag zur 67.…

Bundeswehr-Universität

Zentrum für Cyber-Sicherheit

Die Bundeswehr rüstet sich gegen Cyber-Angriffe und baut dafür auf dem Gelände der…