Leistungshalbleiter

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Renesas Electronics

300-mm-Fab in Kofu für Leistungshalbleiter eröffnet

Renesas Electronics hat in seiner Kofu Factory in Kai City, Präfektur Yamanashi, Japan, den Betrieb aufgenommen und erweitert damit seine Produktionskapazitäten für Leistungshalbleiter deutlich.

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Angriff auf SiC- und GaN-Domäne

Infineon kündigt 400-V-Siliziumkarbid-MOSFET an

Es wäre ein Paukenschlag: Infineon Technologies wird einen diskreten 400-V-SiC-MOSFET auf…

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Infineon/HD KSOE

Elektrifizierung von Schiffen

Infineon Technologies und HD Korea Shipbuilding & Offshore Engineering (HD KSOE) haben…

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Die Klage sei unbegründet

Stellungnahme zur Klage von Infineon gegen Innoscience

Infineon Technologies hatte in den USA Klage gegen Innoscience (Zhuhai) Technology…

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GaN-Technologie

Infineon verklagt Innoscience wegen Patentverletzung

Infineon Technologies hat über ihre Tochtergesellschaft Infineon Technologies Austria AG…

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Infineon: CoolSiC MOSFETs 2000 V

SiC-Komponente mit einer Durchbruchspannung von 2000 V

Infineon Technologies hat die neuen CoolSiC MOSFETS 2000 V im TO-247PLUS-4-HCC-Gehäuse…

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»AI Everywhere«-Event

Emerald Rapids und Intel Core Ultra sind da

Auf der Intel Innovation 2023 hatte Pat Gelsinger, CEO von Intel, angekündigt, dass Mitte…

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Interview mit Jean-Christophe Eloy, Yole

Vertical GaN wird es nicht vor Ende dieses Jahrzehnts geben

Jean-Christophe Eloy, Gründer, President und CEO der Yole-Gruppe, ist zuversichtlich, dass…

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GaN-Leistungselektronik von Innoscience

Bewährte Zuverlässigkeit zum wettbewerbsfähigen Preis

Zu teuer, zu unzuverlässig – mit diesen beiden Vorurteilen zum Einsatz von…

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Aussichten für Leistungshalbleiter 2024

Wachstumstreiber Energie- und Automotive-Anwendungen

Nach teils rasanten Umsatzzuwächsen in einzelnen Produkt- und Anwendungssegmenten während…

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