50 Mio. Pfund investiert
Britische Regierung fördert SiC und GaN
Mit insgesamt 50. Mio. Pfund fördert die britische Regierung das »Compound Semiconductor Applications Catapult«. Dieses Innovationszentrum für Verbindungshalbleiter, von denen SiC und GaN die bekanntesten Vertreter sind, entsteht in Wales.