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IMEC vzw

High-NA EUVL

Der nächste entscheidende Schritt in der Lithografie

Imec erwartet, dass 2025 die ersten High-NA-EUV-Lithografiesysteme (EUV: Extrem Ultraviolett) in der Massenfertigung eingeführt werden. Sie sind der Schlüssel, um das Mooresche Gesetz bis zu Logik-Chips mit 2-nm-Strukturen und kleiner voranzutreiben.

Imec/NeuroGyn

Stimulation der Beckennerven

Das belgische Forschungszentrum imec und das Schweizer Medizintechnikunternehmen NeuroGyn…

Xanadu/imec

Photonic-Chips für fehlertolerante Quantencomputer

Xanadu und imec arbeiten zusammen, um die nächste Generation von Photonic-Quantencomputer…

Silizium-Photonik

InP-DFB-Laser auf 300-mm-Silizium-Photonik-Wafer gebondet

Das Forschungsinstitut imec, Sivers Photonics und ASM AMICRA Microtechnologies haben…

Flämische Initiative

Produktion von grünem Wasserstoff pushen

Die flämischen Forschungszentren imec und VITO (Partner in EnergyVille) wollen mit…

Imec und Aixtron

GaN-Epitaxie für 1200-V-Anwendungen demonstriert

Das epitaktische Wachstum von Galliumnitrid-Pufferschichten für 1200-V-Anwendungen auf…

Bildgebung

Detaillierterer Blick auf den Tumor

Neuer Ultraschallsensor verbessert bildgebende Diagnostik

Was ändert 6G?

Fünf Merkmale für eine kommende Disruption

Die fünfte Mobilfunkgeneration, mit Enhanced Mobile Broadband (eMBB), massive Machine Type…

Roadmap für Logiktransistoren

Mit 2D-Materialien eine weitere Skalierung ermöglichen

Mit 2D-Materialien wie Wolframdisulfid (WS2) könnte die Roadmap für die Skalierung von…

Lokalisierung in Gebäuden

Neuer UWB-Sender-IC braucht weniger als 5 mW

Nur ein Zehntel der Leistung im Vergleich zum Stand der Technik benötigt der vom IMEC…