Halbleiter

New Exposure Technology

Maskless Lithography for High Volume Production

EVG has introduced the first exposure system based on the newly developed Maskless Exposure Technology (MLE). Now volume production can start.

Neue Belichtungstechnik von EVG

Maskenlose Lithographie für die Hochvolumenproduktion

Das erste Belichtungssystem auf Basis der neu entwickelten Maskless-Exposure-Technologie…

Open-Source-Prozessoren

Für wen RISC-V eine Alternative ist

In der fünften Generation sorgt RISC für Aufsehen – aufgrund des Open-Source-Ansatzes. In…

ON Semiconductor

Keith Jackson will im Mai 2021 als CEO zurücktreten

ON Semiconductor hat bekannt gegeben, dass Keith D. Jackson beabsichtigt, als President…

Zweiter Lockdown muss nicht sein

RKI-Chef Wieler sieht Corona-Lage momentan gelassen

Trotz steigender Zahl der Corona-Neuinfektionen sieht der Präsident des Robert…

Programm »Vertrauenswürdige Elektronik«

Projekt »Scale4Edge« nimmt sich vertrauenswürdige Prozessoren vor

Im Rahmen der Leitinitiative »Vertrauenswürdige Elektronik« des…

Handelskrieg USA – China

Taiwan will zum IC-Hub werden

Die Präsidentin von Taiwan, Tsai Ing-wen, will die taiwanische Halbleiterindustrie…

Huawei

Noch genug Lagerbestände für Equipment

Huawei Technologies hat genügend Lagerbestände, um Geräte für die…

Angriff auf Intel geht in 2. Runde

Plus 50 % IPC und SVE: Arms neue CPUs für Infrastruktur-Markt

Nach dem spektakulären Eintritt ins Sever-Geschäft mit der Neoverse-N1-CPU stellte Arm nun…

Leopoldina mit Appell an Bund und Länder

Klare und einheitliche Corona-Regeln sind notwendig

Die Zahl der Neuinfektionen mit dem Coronavirus steigt seit Ende Juli in Deutschland…