Design

Schnellere OPC und OPV für 45-nm- und 32-nm-Designs

Das kalifornische EDA-Start-Up Gauda stellt eine Technologie vor, die die Zeiten für die Optical Proximity Correction (OPC) und die Optimal Proximity Verifikation (OPV) bis um das 200-fache im Vergleich zu bisherigen Lösungen reduziert.

Altium stellt die Innovation Station vor

Mit der Innovation Station stellt Altium eine Kombination einer durchgängigen Software für…

OneSpin: systematische Verifikation für komplexe Module und IP

Mit GapFreeVerification stellt OneSpin einen zum Patent angemeldeten systematischen…

Mentor Graphics erweitert Questa um Testbench-Automatisierung

Mit dem intelligenten Testbench-Automatisierungswerkzeug inFact und den…

Version 13.0 von Tanner Tools

EDA Solutions stellt mit dem Release 13.0 die neueste Version der unter Windows laufenden…

Kompletter Design-Implementation-Flow

Mit dem CHIPit-Manager-Pro bringt ProDesign eine RTL-Front-End-Software auf den Markt, die…

IP für Power-Management- und High-Speed-Inter-Chip-Standard-Unterstützung

Synopsys hat seine DesignWare-USB-IP-Produktlinie mit der Unterstützung für das…

IP für Power-Management- und High-Speed-Inter-Chip-Standard-Unterstützung

Synopsys hat seine DesignWare-USB-IP-Produktlinie mit der Unterstützung für das…

RTL-to-GDSII-Low-Power-Reference-Flow für UMC

Magma stellt einen integrierten Low-Power-IC-Implementation-Reference-Flow für UMCs…

RTL-to-GDSII-Low-Power-Reference-Flow für UMC

Magma stellt einen integrierten Low-Power-IC-Implementation-Reference-Flow für UMCs…