Friedrich-Alexander-Universität
Defekte in SiC-MOSFETs genauer, schneller und einfacher finden
An der Grenzfläche zwischen Siliziumkarbid und dem Gate-Oxid entstehen bei der Herstellung ungewollte Defekte, die die Ladungsträger »wegfangen«. Forscher der Friedrich-Alexander-Universität haben eine einfache und zugleich präzise Methode…