IMEC
EUV ist reif für die Serienfertigung
Auf der 2017 SPIE Advanced Lithography Conference hat das belgische Forschungszentrum Imec in enger Partnerschaft mit Zulieferern eine neue Plattform für die Strukturierung der fortschrittlichsten BEOL-Layer (BEOL: back-end-of-line) vorgestellt. Sie…