Halbleiter

Digitales Lithografiesystem von EVG

Durchsatz im Advanced Packaging verfünffacht

Mit dem neuen maskenlosen Belichtungssystem »LITHOSCALE XT« bringt EV Group das erste echte digitale Lithografiesystem mit hohem Durchsatz und hoher Auflösung für die heterogene Integration im High-Volume-Manufacturing (HVM) auf den Markt.

Fraunhofer ENAS/Becamex IDC

Gemeinsames Forschungszentrum in Vietnam gegründet

Um ihre Zukunftspotenziale zu erschließen und die Basis für nachhaltige…

Nachfrage nach KI-ICs bleibt hoch

Zölle verursachen atypische IC-Marktschwankungen

Angesichts drohender Zölle sieht sich die Halbleiterindustrie im weiteren Jahresverlauf…

Fraunhofer ISE

InP-auf-GaAs-Substrate können Indiumphosphid-Wafer ersetzen

Das Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE und III/V-Reclaim haben ein…

Microchip Technology

Leistungsfähige FPGAs mit 30 % geringeren Kosten

Microchip stellt PolarFire Core FPGAs und SoCs vor – ohne serielle Transceiver, und damit…

ViTFOX-Projekt: Korea und Europa

KI mit ferroelektrischer Technologie deutlich verbessern

Das ViTFOX-Projekt - eine Kooperation zwischen Europa und Korea - entwickelt…

Personalisierte Medizin

Imec und MIT arbeiten zusammen

Imec und MIT entwickeln gemeinsam minimal- und nichtinvasive Diagnosesysteme auf…

Gerücht: Wolfspeed droht Insolvenz

Rettungsanker Chapter 11

Gerüchten zufolge soll die Führung von Wolfspeed zeitnah einen Insolvenzantrag nach…

PsiQuantum lockt

Nvidia investiert in Quantencomputer

Das Start-up PsiQuantum sammelt in einer Investorenrunde gerade 750 Mio. Dollar ein und…

Merck/imec

Mikrophysiologische Systemplattform

Imec und Merck arbeiten zusammen, um gemeinsam eine Plattform für mikrophysiologische…