Mit einem 6-nm-Prozess wird Samsung eine optimierte 7-nm-Variante anbieten. Es gibt weitere Verbesserungen bei dem Flächenbedarf und der Effizienz. Schon bei der 7-nm-Fertigung kamen EUV-Belichtungsmaschinen zum Einsatz. Gegenüber den mit Hilfe des 10-nm-FinFET-Prozesses gefertigten ICs verbesserte der 7LPP-Prozess die Nutzung der Siliziumfläche um 40 Prozent, die Leistungsfähigkeit der ICs steigt um 20 Prozent während sich die Leistungsaufnahme um 50 Prozent reduziert.