Halbleiter

28 nm: Toshiba und NEC jetzt bei IBM im Boot

Nachdem Toshiba und NEC Electronics bereits seit längerem mit IBM in der generellen Halbleiter-Prozess-Entwicklung kooperieren, wurde die Zusammenarbeit jetzt auch auf die Entwicklung eines High-K/Metal-Gate-Prozesses in 28 nm-Geometrie ausgedeht.

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