Halbleiter

High-NA EUVL

Der nächste entscheidende Schritt in der Lithografie

Imec erwartet, dass 2025 die ersten High-NA-EUV-Lithografiesysteme (EUV: Extrem Ultraviolett) in der Massenfertigung eingeführt werden. Sie sind der Schlüssel, um das Mooresche Gesetz bis zu Logik-Chips mit 2-nm-Strukturen und kleiner voranzutreiben.

Kommentar

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