Die aktuellen Entwicklungen in der Maskentechnologie waren Thema der diesjährigen EMLC. Insbesondere die jüngsten Fortschritte in der EUV-Lithografie und bei Nanoimprint-Lithografieverfahren wurden diskutiert.
3D-Mikrostrukturen können Sicherheit gegen Fälschungen und Produktpiraterie erhöhen.…
Data I/O zeigt erstmals die Programmierung von…
Das Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT und Rapid Shape haben den harzbasierten…
Die Robert Hofmann GmbH ist einer der ersten Dienstleister in Deutschland, der die…
Vom 14. bis 17. November ist es wieder so weit: Die productronica öffnet auf dem Münchner…
Die „AT&S Toolbox“ kombiniert verschiedene Verbindungstechniken, um auf unerreicht hohe…
2017 findet die SEMICON Europa parallel zur productronica statt. Hier soll die globale…
smartPCN, das von der COG Deutschland e.V. entwickelte, Datenbank-basierte Tool für die…
Der enorme Bedarf an Elektronik-Dienstleistungen lässt die Bäume für die mitteleuropäische…