Induced Deep Etching (LIDE) von LPKF
IC-Packaging mit hauchdünnem Glas
Mit der LIDE-Technologie ist LPKF ein revolutionäres Verfahren gelungen, das das Potential von Glas für die Mikrosystemtechnik erschließt. Das LIDE-Verfahren ist eine Kombination aus Lasermodifikation und nasschemischem Ätzen.