Nanoimprint Lithography (NIL) ist eine der vielversprechensten Plattformen, um 3D-Tpographien auf Mikro- und Nanometer-Ebene mit sehr hoher Auflösung und hohem Durchsatz zu realisieren. Es findet bereits schon Einsatz, um diffraktive und refraktive optische Elemente für Mikro- und Nano-Optiken, für die Mikrofluidtechnik und in den Lebenswissenschaften herzustellen. Ein der Herausforderungen besteht darin, 3D-Master zu fertigen, die sich in der Produktion von hohen Stückzahlen nutzen lassen. Wie es funktionieren kann, hat SwissLitho in Zusammenarbeit mit der micro resist technology GmbH auf Basis des NanoFrazor gezeigt.