Mikrostrukturen für organische Elektronik und…
Neuer Siebdruckprozess für feinste Leiterbahnen mit hoher Schichtdicke
Essemtec ist es erstmals gelungen, feinste Leiterbahnen mit 50 µm Breite im Siebdruckverfahren herzustellen. Der Siebdruck ist günstiger als der bisher übliche Offset- oder Flexo-Druck und erlaubt den Aufbau sehr hoher Schichtdicken.