DSA-Strukturierungsverfahren versprechen das Bilden chemischer Strukturen mit entspannteren Abständen unter Verwendung konventioneller optischer Lithographie und den Einsatz dieser Strukturen als Basis für die Selbstmontage von Block-Copolymeren (BCPs), um neue Linienraumstrukturen mit mehr als dreifach dichterer Teilung zu bilden.