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High-NA-EUV

1. Februar 2024, 10 Bilder
© Zeiss

Schwarzlichtkontrolle der ZEISS Projektionsoptik für die High-NA-EUV-Lithografie. Das Herzstück der Lithografie-Maschine besteht aus mehr als 40.000 Teilen und wiegt etwa zwölf Tonnen.

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