Qualitätskontrolle für die Chipindustrie
Erstmals unsichtbare Unebenheiten auf Wafern messen
Bislang nur unvollständig und aufwändig zu ermittelnde Unebenheiten auf Halbleiterscheiben sind mit dem von Dr.-Ing. Alexander Tobisch am Fraunhofer IISB entwickelten Messverfahren leicht und preiswert zu detektieren. Hierfür erhielt er den…