28-nm-Low-Power-Plattformtechnologie
Die weltweit größte Foundry TSMC hat eine 28-nm-Low-Power-Technologie entwickelt, mit der die Verwendung von Siliziumoxinitrid/Poly mit Dual/Triple-Gate-Oxid-Prozessen (SNO) auch mit Strukturgrößen kleiner als 32 nm möglich wird.
