High-NA-EUV
1. Februar 2024, 10 Bilder
ASML hatte im Dezember 2023 das erste High-NA-EUV-Lithografiesystem, die »TWINSCAN EXE:5000«, an Intel ausgeliefert.
ASML hatte im Dezember 2023 das erste High-NA-EUV-Lithografiesystem, die »TWINSCAN EXE:5000«, an Intel ausgeliefert.