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High-NA-EUV

1. Februar 2024, 10 Bilder
Zeiss
© Zeiss

Schwarzlichtkontrolle der ZEISS Projektionsoptik für die High-NA-EUV-Lithografie. Das Herzstück der Lithografie-Maschine besteht aus mehr als 40.000 Teilen und wiegt etwa zwölf Tonnen.

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Kontron hat die KBox A-151 EAI mit dem SiMa.ai MLSoC Modalix für industrielle und medizinische Edge-Anwendungen vorgestellt. Die Plattform liefert mehr als 50 TOPS dedizierte KI-Leistung und kombiniert einen Intel Core- oder Intel-Atom-Prozessor der 13. Generation mit der KI-Beschleunigung von SiMa.ai. Dadurch lassen sich Geschäftslogik und KI-Inferenz auf einer Plattform trennen. Das lüfterlose, passiv gekühlte System ist für anspruchsvolle Umgebungen ausgelegt und unterstützt Echtzeit-Videoanalysen, multimodale Steuerungen und Sensorfusion. Für die Medizintechnik ist vor allem die Kombination aus Bild-, Audio- und Sensordatenverarbeitung relevant, etwa in diagnostischen oder assistiven Systemen mit Edge-Verarbeitung. Die Plattform soll dabei auch GenAI-, LLM-, LMM- und CNN-Workloads unterstützen. Über das Palette SDK und Edgematic sollen sich multimodale Modelle schneller umsetzen lassen. Die Plattform ist damit vor allem für Medical-Anwendungen interessant, bei denen Rechenleistung, Echtzeitfähigkeit und Robustheit am Edge zusammenkommen müssen. Kontron - www.kontron.com
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