Flexibles ICP-PECVD-System

Singular von Singulus Technologies ist eine ICP-PECVD-Beschichtungsanlage zur plasmaunterstützten Gasphasenabscheidung (PECVD) für die Massenfertigung kristalliner Silizium-Solarzellen. Darüber hinaus wird das System verstärkt bei der Entwicklung konventioneller und neuer Zellkonzepte für PECVD-Beschichtungen von Hochleistungs-Solarzellen eingesetzt.

Das modulare System besteht aus mehreren Vakuumkammern, die individuell an Kundenanforderungen anpassbar sind. Dank dieser hohen Flexibilität lassen sich auf bestehenden Herstellungsplattformen neue Fertigungsprozesse mit Zellwirkungsgraden über 20% entwickeln.

Singular basiert auf der stationären Inline-Fertigung und verbindet die Vorteile des Inline-Substrattransports und der stationären Verarbeitung. Das ermöglicht die Beschichtung komplexer Schichtsysteme, die aus verschiedenen Materialien bestehen. Die kompakte Bauweise, die Prozessvariabilität und die Zuverlässigkeit der Anlage garantieren hohe Zellwirkungsgrade, Betriebszeiten und optimierte Total Costs of Ownership.

Das Hauptmerkmal der Anlage ist die ICP-PECVD-Technologie: Die induktiv gekoppelte Plasma (ICP)-Abscheidung gewährleistet eine optimale Steuerung der Schichtbeschaffenheit und -dichte bei hohen Abscheidungsraten.

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