ASML Eine Erfolgsmeldung für EUV?

ASML hat eigens eine Pressemitteilung veröffentlicht, in der zu lesen ist, dass ein Kunde mit dem NXE:3300B-EUV-Stepper mehr als 500 Wafer innerhalb von 24 Stunden belichten konnte.Ist das jetzt der Anfang vom Durchbruch?

Peter Wennink, CEO von ASML, kommentiert: »Ein Kunde konnte während eines Belastungstests mit unserem System 637 Wafer in 24 Stunden belichten.« Damit liege der EUV-Stepper über den Zielvorgaben der ASML-Kunden, die bis zum Ende des Jahres einen Durchsatz von 500 Wafern pro Tag fordern. Allerdings muss jetzt erst einmal sichergestellt werden, dass es sich bei diesem Durchsatz nicht um einen einmaligen Wert handelt, sondern dass er sich mehrere Tage hintereinander und auf verschiedenen Systemen wiederholen lässt.

Bei Solid State Technology wiederum heißt es, dass der NXE:3300B-Scanner bei IBM in Albany steht und dass ein Upgrade, mit der die Lichtquelle ursprünglich auf 40 W gebracht werden sollte, eine Leistung von 44 W ermöglichte und damit beim ersten Testlauf eben die erwähnten 637 Wafer belichtet werden konnten.

Vergleicht man die 44 W, die 637 Wafer pro Tag oder knapp 27 Wafer pro Stunde mit den ursprünglichen Zielen, wird schnell klar, dass EUV immer noch weit hinter dem hinterherhinkt, was ursprünglich einmal angedacht war – nämlich 250 W und ein Durchsatz von 125 Wafer pro Stunde; der Durchbruch lässt also weiter auf sich warten.