Hochvolt und nichtflüchtige Speicher X-FAB erweitert 0,18-µm-Plattform mit 60-V-Option

Die neue Technologieplattform XP018 von X-FAB Silicon Foundries ist ein Foundry-Prozess, der sich laut Unternehmensangabe durch die weltweit geringste Maskenanzahl auszeichnet, die für eine Kombination von Digital-, Analog- und Hochvoltfunktionen, einschließlich integriertem Flash, notwendig ist.

Die neue XP018-Prozessplattform bietet Betriebsspannungen von 5 bis 60 V sowie einen wettbewerbsfähigen Einschaltwiderstand (RDSon), der kleine Chip-Größen und geringe Kosten ermöglicht. Die Kombination von HV und integrierten nichtflüchtigen Speicherelementen erfordert weniger als 30 Masken. Der Prozess ist auch bestens für Automobilanwendungen geeignet.

Die Prozesstopologie beinhaltet eine breite Palette von nichtflüchtigen Speicheroptionen einschließlich Poly Fuse zur Schaltkreiskalibrierung (Trimming), OTP, EEPROM und Flash, die alle im Jahr 2012 mit vollständig qualifiziertem Prozess-Design-Kit zur Verfügung stehen werden.

Die XP018-Technologie ist ab sofort für die Entwicklung und Produktion von Schaltkreisen verfügbar, einschließlich vorab veröffentlichter IP für die Speicheroptionen. Die vollständige Qualifizierung erfolgt 2012.