Lithographieentwicklung beschleunigen Tokyo Electron und ASML machen gemeinsame Sache bei EUV

Tokyo Electron (TEL) und ASML arbeiten bereits seit Jahren an den Grundlagen der EUV-Technik. Jetzt haben sie sich darauf geeinigt, die gemeinsamen Entwicklungsaktivitäten rund um EUV (Extreme Ultraviolet) und ArF-Immersion-Lithographie noch stärker zu forcieren.

Die Zeit drängt, die Nachfrage nach modernsten Lithographie-Systemen für die Fertigung von ICs mit 22/20 nm und darunter wird immer stärker. Zwar ist heute noch nicht ganz klar, ab wann die optische Lithographie wirklich am Ende ist, aber in einem Punkt ist man sich wohl einig: Danach ist die EUV-Technik die erste Wahl. Also gilt es, hier die Entwicklung zu beschleunigen. Die ArF-Immersion-Technik wiederum ist derzeit die Mainstream-Technik für die Fertigung modernster Halbleiter, mit ihr sollen sich Strukturgrößen bis hinunter zu 14 nm fertigen lassen.

Um also in beiden Bereichen weiter zu kommen, haben die beiden Unternehmen sich darauf geeinigt, ihr jeweiliges Equipment dem anderen zur Verfügung zu stellen. So wird TEL beispielsweise seine neueste EUV-Beschichtungsanlage/Entwicklungsanlage nach Veldhoven liefern, ASML wiederum wird sein ArF-Immersion-Exposure-Tool in der Koshi-Fabrik von TEL aufstellen.