Tantal-Kondensatoren Kemet verbessert Produktzuverlässigkeit

Die Firma Kemet kündigte zwei technologische Neuerungen an, mit denen sich Tantal-Kondensatoren mit hoher Zuverlässigkeit und Durchbruchspannung realisieren lassen. Zu den Neuerungen zählen Fertigungsprozesse für eine verbesserte dielektrische Qualität bzw. mechanische Festigkeit und ein patentiertes Screening zur Simulation der Durchbruchspannung.

Die als F-Tech bezeichnete neue Tantal-Fertigungstechnik von Kemet optimiert die chemische Reinheit, um versteckte dielektrische Defekte zu verhindern, die im Feldeinsatz fatale Auswirkungen haben und zu einem Ausfall des Kondensators führen können. F-Tech umfasst mehrere Prozesstechnologien, ist im Vergleich zur Anoden-Fertigung ein verbesserter Ansatz und basiert auf dem Verständnis über Abbaumechanismen in Tantal-Kondensatoren. Einige dieser Vorgänge verringern den Kohlenstoff- und Sauerstoffgehalt der Anode. Diese Elemente werden dann zu Verunreinigungen, die eine Kristallisation auf dem anodischen Oxid-Dielektrikum verursachen. Eine andere Prozesstechnik erhöht die Zuverlässigkeit, indem eine stärkere mechanische Verbindung zwischen dem Tantal-Anschlussdraht und der Anode realisiert wird.

Das patentierte Simulated Breakdown Screening (SBDS) wiederum ist eine zerstörungsfreie Prüfung, mit der die Kondensator-Durchbruchspannung ohne Beschädigung des Bauteils simuliert wird. Falls erforderlich, wird das Screening auf 100 % des Produkts angewendet.