»More Moore«: Mikroskoptechnik für 20-nm-Strukturen

Drei Partner des von der EU geförderten Forschungsprojekts »Moore More« - für die Entwicklung von EUV-Lithographie in Europa – konnten einen Durchbruch erzielen.

Dem deutschen Unternehmen Focus und den Universitäten Bielefeld und Mainz ist es gelungen, ein Fotoemissions-Elektronenmikroskop zu entwickeln, das in der Lage ist, Strukturen bis hinunter zu 20 nm zu messen, ohne sie dabei zu zerstören. Die EU fördert das More-Moore-Projekt mit 23,25 Mio. Dollar für 36 Monate (Ende 2006 ist das Projekt beendet). Das Ziel des Projekts ist es, die technischen Probleme der EUV-Lithographie zu lösen, so dass die Technik für die Serienfertigung nutzbar wird.

An dem Forschungsprojekt arbeiten diverse Unternehmen aus Europa mit, einschließlich ASML, Phystex, Zeiss, AMTC, Philips EUV, XTREME technologies, Focus, Sigma-C, AZ Electronic Materials, Schott Lithotec, Philips, XENOCS, Sagem Défense Sécurité, Imagine Optic, EPPRA, Media Lario. An Forschungsinstituten und Universitäten sind folgende Einrichtungen beteiligt: IMEC, CEA Leti/Minatec, CNRS, TNO, FOM Rijnhuizen, Fraunhofer Institute, ISAN und IPM RAS (Russian Institutes of Science), ENEA, ELETTRA, NCSR sowie die Universitäten von Bielefeld, Mainz, Delft und Birmingham.