Schnellere OPC und OPV für 45-nm- und 32-nm-Designs

Das kalifornische EDA-Start-Up Gauda stellt eine Technologie vor, die die Zeiten für die Optical Proximity Correction (OPC) und die Optimal Proximity Verifikation (OPV) bis um das 200-fache im Vergleich zu bisherigen Lösungen reduziert.

Diese Zeitverbesserung erreicht Gauda ohne Anwenden einer speziellen Hardware oder eines speziellen FPGAs, sondern mit einer Reihe von Algorithmen, die auf CPUs und GPUs zurückgreifen. Mit Hilfe dieser Technologie von Gauda und zehn Desktop-PCs kann ein 45-nm-Full-Chip-Layout über Nacht ausgeschmückt werden. Für die Verifikation dieses Layouts reicht sogar ein Desktop-PC aus.

Mit dem Wechsel von 45-nm- auf 32-nm-Designs steigt auch der erforderliche Rechenaufwand um das Zwei- bis Dreifache pro Jahr. Leider halten CPUs dieser Entwicklung nicht Schritt, da ihre Rechenleistung pro Jahr nur um etwa 30 Prozent steigt. Um diese Resolution-Enhancement-Technologies-Probleme (RET) zu lösen, müssen die Clustergrößen von CPUs ständig ausgebaut werden. Dadurch befinden sich Tool-Entwickler an dem Wendepunkt, wo die Dauer, ein Tool umzuschreiben, mehr Zeit in Anspruch nimmt, als der Wechsel auf eine neue Prozessbreite.

Darum hat Gauda einen »Turbo« für OPCs entwickelt, der auf die Grafikprozessor-Leistung zurückgreift. Gauda optimierte den Zugriff auf Standard-Ressourcen von Desktop-PCs so, dass die RET-basierte Rechenleistung ohne Einbußen bei der Präzision erhöht werden konnte. »Dank der Jahr für Jahr steigenden Rechenleistung von Grafikprozessoren kann unsere Technologie nicht nur die heutigen, sondern auch die Leistungsanforderungen der nächsten Jahre abdecken«, so Dr. Ahmet Karakas, Gründer und President von Gauda. »Unsere Technologie ist zu heutigen und zukünftigen Generationen von GPUs kompatibel. Dies und viele weitere Features unserer Technologie helfen Entwicklern, ihre DFM-Bestrebungen schneller zu erreichen.«