Prozess-Schwankungen im Design-Flow modellieren

Immer kleinere IC-Strukturen führen dazu, dass diese Problematik bereits beim Design berücksichtigt werden muss. Mit »Calibre LFD« hat Mentor Graphics jetzt ein Tool vorgestellt, das den Designer dabei unterstützt.

Über Design-for-Manufacturing wird in der EDA-Welt bereits seit einigen Jahren diskutiert. Jetzt scheint das Thema in der Realität angekommen. Kürzlich stellte Cadence mit der »RET-Suite« eine Lösung vor und jetzt zieht Mentor Graphics mit »Calibre LFD« nach.

»In der Vergangenheit lag es in der Verantwortung der Foundry, die Lithografifähigkeit zu gewährleisten«, erzählt Joe Sawicki, Vice President und General Manager des Bereichs Design-to-Silicon von Mentor Graphics. »Mit Calibre LFD können Designer zum ersten Mal beeinflussen, wie gut die Chipsausbeute durch die Veränderungen im Prozessfenster wird.«

»LFD« im Namensanhang steht dabei für Litho-Friendly-Design und genau darum geht es bei diesem Tool. Mit Calibre LFD ist es nämlich möglich, Layout-Änderungen, die die Stabilität des Fertigungsprozesses verbessern, bereits in einem sehr frühen Stadium während der Designentwicklung vorzunehmen und somit die Robustheit der Layouts innerhalb des lithographischen Prozessfensters zu verbessern. »Calibre LFD erlaubt es Ingenieuren, ein Design zu erzeugen, das robuster und un-empfindlicher gegenüber dem lithographischen Prozessfenster ist«, so Joe Sawicki, Vice President und General Manager der Design-to-Silicon-Division von Mentor Graphix.

Das neue Mentor-Tool basiert auf der Design-to-Silicon-Plattform Calibre und kann mit Hilfe von Calibre Interactive leicht in gängige Layout-Umgebungen integriert werden.