Neue Design-for-Manufacturing-Methode für 65-nm-Designs

Die Design-for-Manufacturing-Thematik hat jetzt der EDA-Spezialist Magma um die Characterization-to-Silicon-DFM-Methode erweitert, die die Zellcharakterisierung, IC-Implementierung und die Sign-off-Verifikation von 65-nm-Designs unterstützt.

Entwickler sollen damit in der Lage sein, DFM-relevante Probleme genau vorherzusagen. »DFM ist eine extrem komplexe Aufgabe, die mit Einzelwerkzeugen oder Post-Layout-Korrekturen nicht mehr vollständig und effektiv gelöst werden kann«, so Kam Kittrell, Geschäftsführer des Geschäftsbereichs »Design Implementation« von Magma. »Bei 65 nm kann auf den Einsatz von DFM-Techniken in der Implementierungsphase nicht mehr verzichtet werden, wenn das Silizium funktionieren soll.«

Mit der DFM-Methode lassen sich Lithographie- und CMP-Effekte modellieren und damit Prozessschwankungen in den Griff bekommen. Das wird durch den Einsatz Modell- und Regel-basierter Ansätze, die Berücksichtigung von Schwankungen und systematischen und parametrischen Fehlern, die den Yield negativ beeinflussen können, sowie durch die Bereitstellung präziser Ergebnisse in Sign-off-Qualität möglich. »Das Resultat sind robustere und weniger störanfällige Designs«, so Kittrell. Außerdem würde sich die Übergabe an die Fertigung einfacher gestalten, da während des Implementierungsprozesses DFM-Compliance-Tests durchgeführt werden, die in punkto Genauigkeit die Anforderungen des Sign-offs erfüllen. Herzstücke dieser Methode sind die neuen Magma-Tools »SiliconSmart DFM«, »Talus DFM« und »Quartz DRC-Litho«.