Lithographie-Tool für Doule-Patterning

Mit der neuen Version seines Lithographie-Tools PROLITH-11 ermöglicht KLA-Tencor die Evaluierung gängiger Double-Patterning-Entwürfe.

Darüber hinaus untersucht PROLITH-11 alternierende Lösungen bezüglich der lithographischen Aufgabenstellungen beim Design, der Materialwahl und bei der Prozess-Entwicklung. Außerdem unterstützt das Lithographie-Tool das Single-Pass-Patterning und die Immersions-Technologien. Die Double-Patterning-Lithographie (DPL) ist eine Methode, um kleine Features von Bauelementen zu konstruieren. Dafür wird das Ausgangs-Pattern in zwei überlappende Pattern zerlegt.

Mit PROLITH-11 sind Designer in der Lage, komplexe Systeme zu modellieren und mit dem produzierten Modell direkt im Anschluss das System zu optimieren. Dabei werden die Effekte von nachträglichen Design-Änderungen und die gegebenen Prozess-Parameter automatisch berücksichtigt. PROLITH-11 wird bereits bei Chiphersteller in den USA, Taiwan und Japan eingesetzt, die mit Prozess-Nodes von 65 und 45 nm arbeiten.