Calibre nmDRC definiert das Design-to-Manufacturing neu

Bei Nanometer-Designs stoßen Chipentwickler mit traditionellen Design-Rule-Checking-Methoden immer wieder an Grenzen. Um das zu verhindern, hat Mentor Graphics nun mit »Calibre nm« eine neue Plattform vorgestellt.

Das erste Tool der Plattform, »Calibre nm DRC«, wartet mit vier Neuerungen auf, die die Gesamtzykluszeit deutlich reduzieren soll: 1. Die Hyperscaling-Technologie ermöglicht eine hohe Skalierbarkeit und schnelle Laufzeiten für rechenintensive Applikationen. 2. Dynamic Results Visualisation (DRV) und inkrementelles DRC verändern den traditionellen sequenziellen Flow des Iterations-Prozesses. 3. Die integrierte Design-for-Manufacturing-Analyse ermöglicht Layout-Tradeoffs zur Minimierung von wahlfreien, systematischen und parametrischen Yield-Verlusten. 4. Der direkte Datenbankenzugriff gestattet Designern den Einsatz von Calibre nmDRC während des Flows, und zwar unabhängig von ihrer gewählten Designerstellungsumgebung.