Bund fördert Maskenlithografie in Dresden

Mit fast 8 Millionen Euro unterstützt der Bund die Entwicklung neuer Masken für die Halbleiterfertigung in 32 und 22 nm.

7,9 Millionen Euro gibt das Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) aus, um das Verbundprojekt »Critical Dimension und Registration für die 32 nm Maskenlithografie« (CDuR32) zu unterstützen.

Neben dem BMBF sind der Dresdner Maskenspezialist AMTC, der Messgeräte-Hersteller Vistec Semiconductor Systems sowie die Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB) beteiligt. Ziel des Projektes, das insgesamt einen Umfang von 16,7 Millionen Euro hat, ist die Entwicklung von Lithografiemasken für Strukturgrößen von 32 und 22 nm.

Die finanzielle Unterstützung des Projektes soll dazu beitragen, die technologische Spitzenstellung Dresdens auf diesem Gebiet auszubauen und damit auch die Nanoelektronik in Europa zu stärken.