Geld für die extreme UV-Lithographie

XTREME technologies, ein Technologie-Joint-Venture von Jenoptik und Ushio, hat eine Finanzierung von Intel Capital, dem strategischen Investment-Bereich von Intel erhalten, um die Entwicklung seiner EUV-Lichtquellen (extreme UV) für die Fotolithografie zu beschleunigen.

Die ITRS sagt vorher, dass die EUV-Lithografie gegen Ende dieses Jahrzehnts beginnt, die heute üblichen Lithografieverfahren bei der Fertigung von High-End-Halbleitern mit kritischen Strukturbreiten von 32 nm und kleiner abzulösen.