»European SEMI Award 2006« für Lithografie-Pioniere

Die SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) hat auf der Semicon Europe 2006 ihren »European SEMI Award 2006« an zwei Pioniere der Lithografie vergeben.

Dabei handelt es sich um Martin van den Brink, Executive Vice President Marketing and Technology von ASML, und Winfried Kaiser, Vice President Product Strategy von Carl Zeiss SMT.

Martin van den Brink war maßgeblich an der Entwicklung modularer Lithografiesysteme und der Twinscan-Plattform von ASML beteiligt. Mit seinen Kenntnissen sowohl in der Technik als auch im Marketing hat er mit dazu beigetragen, dass ASML zum weltweit größten Hersteller von Lithografiegeräten aufsteigen konnte und heute eine führende Rolle in der Immersion-Lithography sowie im Bereich der EUV-Systeme einnimmt, die die optische Lithografie aller Voraussicht nach einmal ablösen werden.

Winfried Kaiser gilt als Pionier in der Entwicklung von 248-nm-Optiken mit hoher numerischer Apertur und von 193-nm-Immersion-Systemen. Außerdem hat er eine führende Rolle beim Aufbau reflektiver Optiken für die EUV-Geräte gespielt.