IMEC installiert EUV-Tool von ASML

Das belgische Institut IMEC hat damit begonnen, das neue Alpha-Demo-Tool des EUV-Ltihografiegeräts von ASM Lithography zu installieren.

Erst kürzlich hatte ASML ein solches Alpha-Tool auch an das College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) der University at Albany, New York, geliefert. Es handelt sich um das weltweit erste Vollfeld-Belichtungsgerät und bildet laut IMEC einen wichtigen Bestandteil des Advanced-Lithography-Programms von IMEC. Das Institut forscht parallel an der EUV-Lithografie und an der Lithografie mit Linsensystemen sehr hoher numerischer Apertur auf Basis der XT1700i von ASML und an Doppelbelichtungstechniken. An IMECs Lithografie-Programm sind insgesamt über 30 Partner beteiligt, darunter neuen der zehn führenden IC-Hersteller: Infineon, Intel, Matsushita/Panasonic, Micron, Philips Semiconductor, Samsung, STMicroelectronics, Texas Instruments and TSMC. Damit leitet IMEC das weltweit größte R&D-Programm für die Fertgung von ICs unterhalb der 32-nm-Ebene. Zu den Partnern zählen auch Firmen, die Teile für die Lithografiegeräte zuliefern, außerdem Resist-Hersteller, Mask-Shops und Software-Unternehmen.