Carl Zeiss SMT: Fotomasken genau ausrichten

Die Semiconductor Metrology Systems Division (SMS) von Carl Zeiss SMT hat sich bei einer internationalen Ausschreibung für ein Messsystem zur Fertigung von Mikrochips durchgesetzt.

Die Neuentwicklung ermöglicht die Positionsvermessung von Strukturen auf Photomasken mit einer Genauigkeit von unter einem Millionstel Millimeter. Die dabei entstehenden verschiedenen Ebenen auf dem Chip müssen bis auf wenige Nanometer genau übereinander liegen um die Funktionalität zu gewährleisten. Voraussetzung dafür ist, die Strukturen auf den einzelnen Photomasken höchstgenau zu vermessen. Das Gerät gleicht die reale Position von Messpunkten auf der Photomaske mit der idealen Sollposition für die Belichtung ab. Damit ist gewährleistet, dass die Schichten, die über bis zu 30 Photomasken strukturiert werden, mit einer Präzision im Bereich von wenigen Nanometer zueinander ausgerichtet sind. Bei der Konstruktion hat SMS bereits die Anforderungen zukünftiger Technologien wie Nano-Imprint  und der EUV-Lithographie berücksichtigt.

Die Jury, bestehend aus Mitgliedern der SEMATECH (Internationales Konsortium zur Förderung von Technologien der Halbleiterfertigung) und führenden Photomaskenherstellern, hat das Konzept der SMS als »technologisch und wirtschaftlich überlegenes Gewinnerprojekt« bezeichnet. Dr. Oliver Kienzle, Geschäftsführer bei SMS: »Wir haben die Kernkompetenzen von Carl Zeiss SMT in der Messtechnik, dem optischen Design und der Gerätesteuerung gebündelt. So konnten wir dieses vollkommen neue  Konzept in kürzester Zeit entwickeln.«
Carl Zeiss SMT wird in Jena und Oberkochen eine komplett neuen Produktlinie aufbauen und zusätzliche Mitarbeiter einstellen, um die neuen Systeme  weiter zu entwickeln und zu fertigen. In der Produktion und dem Service entstehen 25 bis 30 neue Arbeitsplätze, die Mehrzahl davon am Standort der SMS in Jena.