ASM Lithography: Erstes Vollfeld-EUV-Tool

ASM Lithography hat das weltweit erste Vollfeld-EUV-Lithografiegerät entwickelt und an das College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) der University at Albany, New York, geliefert.

Das 65 Mio. Dollar teure Gerät belichtet im extremen Ultraviolett-Bereich (EUV) bei einer Wellenlänge von 13 nm. Es handelt sich um ein Alpha-Demo-Tool, das für Forschungszwecke, nicht für die Produktion Einsatz findet. Es steht den Mitgliedern des International Venture for Nanolithography (Invent) zur Verfügung, zu dem AMD, IBM, Micron und Qimonda gehören. An dem EUV-Programm des CNSE nehmen auch Sony und Toshiba teil. Die Firmen arbeiten daran, die EUV-Technik in die Produktion zu bringen. Das CNSE rechnet damit, dass die EUV-Technik für die Fertigung von Chips mit 32-nm-Strukturen und darunter in die Fabs Einzug halten wird.